9 月 7 日，HarmonyOS 7 正式发布，为大家带来更沉浸，更智能，更安全，更流畅，更便捷的全新体验。本次升级，空间化、智能化、安全性与流畅度等核心体验全面跃升，进一步完善系统能力，为应用体验创新打开更多空间。

全新HarmonyOS 7 系统能力持续增强，同时也为开发者提供了一套更高效、更智能的“提效工具箱”：

▪ DevEco Studio 全面升级，开发体验更快更智能；

▪ DevEco Code & DevEco CLI 进一步拓展AI辅助开发边界，让AI更懂鸿蒙开发；

▪ 鸿蒙应用问题定位定界（DFX）能力升级，崩溃、冻屏、泄露类问题快速定位，为应用质量保驾护航；

▪ 多设备开发更简单，全场景适配更便捷；

▪ 开发者资源持续丰富，提供最新特性开发指导及示例代码，新增 AI Skill 智能辅助，让开发更快一步。

无论你是准备孵化一款全新的鸿蒙应用，还是想让已有鸿蒙应用在新版本上体验更好、开发更快、适配更优，HarmonyOS 7 都带来了值得关注的新能力。

下面，我们从开发者最常用、最关心的几个场景出发，看看这次升级带来了哪些帮助。

一、让应用更精致、更智能、更安全、更流畅，体验更出彩

1. 空间化新体验：3DGS 空间渲染与空间重建能力全新升级，让空间“即刻成型”；音频能力更新，多音轨编辑能力为用户带来空间音频体验，高清音频带来全场景降噪体验。

2. 智能程序框架：提供工具、Skill、端侧 A2A 等框架能力，实现应用服务与系统深度融合，为应用服务触达与新场景拓展带来新流量、新机会。

3. 星盾安全进一步升级：星盾防诈全新支持星盾机密风控引擎，开发者可自定义风控防诈策略；数字盾 2.0 拓展使用场景，支持浏览器免插件、元服务，以及 PC、平板等更多设备；全新推出数字身份 DID，通过硬件 TEE 级保护实现 DID 密钥生成、可验证凭证（VC）解析与签名管理，提升用户身份与隐私安全；安全相机 2.0 升级，支持数字内容溯源，为相机拍摄的内容提供更可靠的来源保护与安全保障。

4. 首创鸿蒙内核应用快启技术：攻克“启动性能与内存开销”跷跷板业界难题，应用启动快人一步。

▪ 获取更多系统能力详情信息，请登录HarmonyOS开发者官网，在“开发”频道找到并点击“开发文档”，选择“版本说明”，即可找到26.0.0《版本概览》：

二、开发工具全面提效，编译快、内存小、开发者体验更友好

全新 DevEco Studio 围绕开发者日常高频场景进行了系统优化：

1. 代码索引效率提升 70%，工程打开速度更快；编译构建时间优化了40%，整体内存占用降低 30%，模拟器启动速度提升 7 倍，DevEco Studio 使用更流畅。 

2. 支持多 har 包合并，合并后 har 包可独立对外提供；Build Analyzer 展示优化，增加构建配置检查，并提供性能优化最佳实践，帮助开发者更快发现并优化构建问题。

3. 优化应用包上传流程，支持通过云管理证书对应用包进行自动发布签名，减少上架前的手工操作，提升应用上架效率。

▪ 获取开发工具，请登录HarmonyOS开发者官网，点击“开发”频道“开发工具”即可找到：

三、DevEco Code / DevEco CLI 深度适配 ArkTS，从需求输入到最终应用包生成，生产力拉满

1. DevEco Code 全面更新知识库和 Skills，并新增 ArkTS 静态检查工具，增强 UI 意图校验和构建修复能力，可快速校验和修复代码问题，提升 ArkTS 代码生成的准确性。

2. DevEco CLI 支持一键完成证书生成与应用签名，让构建的应用能直接推送到真机上运行并验证功能，减少证书和签名环节的重复操作。

3. DevEco CLI 支持模拟用户交互操作的命令，比如点击、滑动、拖拽等；支持导出 ArkUI 节点树信息，为 Agent 提供更便捷的UI布局检视能力，让 AI 能自主操作模拟器或真机，分析 UI 交互与功能问题。

▪ 获取DevEco Code 使用指南和DevEco CLI 使用指南，请登录HarmonyOS开发者官网，找到“开发”频道，按照“开发-开发文档-指南”路径查找：

四、鸿蒙问题定位定界更高效，应用稳定性更有保障

1. APMS（应用质量管理服务）支持商用版本故障数据总览、故障告警、问题日志根因分析及修复建议，让线上问题更容易发现和定位。

2. Profiler 提供 ArkTS/C++ 跨语言内存泄漏检测能力，并针对 C++ 不可达内存提供 Native leasks 检测能力，帮助开发者排查复杂内存问题。

3. Operation Analyzer 支持 GWPASan 日志分析及应用冻屏基于采样栈日志分析；提供本地离线符号表及在线符号表解析能力，关联工程源码快速定位故障代码。

▪ 详细了解鸿蒙应用问题定位定界（DFX）相关能力，请登录HarmonyOS开发者官网，在站内搜索“鸿蒙应用问题定位定界”关键词，即可获取“了解详情”：

五、多设备开发更简单，全场景适配更便捷

1. 平行视界 EasyGo 能力新增 1:2、2:1 启动，支持购物模式、导航模式等路由模式，支持设置分割线颜色和自由拖拽、开发者通过配置文件主动接入，成本更低，体验更优。

2. 提供应用内分屏新能力，折叠屏展屏模式下，快速进入比价、辅助窗口模式，视野升级的同时，提升用户操作效率。

3. 支持基于真机、模拟器开展多设备 UX 检测，检测大图大字、界面截断、重叠等典型布局问题，帮助开发者更早发现适配风险。

▪ 前往HarmonyOS开发者官网了解多设备详情信息：

六、资源更丰富、更完善，学习和开发少走弯路

1. “HarmonyOS 新特性”系列视频，从效果、价值到开发步骤，帮助开发者第一时间掌握 HarmonyOS 系统创新特性并快速完成接入。

2. “HMOS 代码工坊”新增手表版本，上新 10+ 创新案例、15+ 全品类一多案例，总计上线 70+ 开发案例，帮助开发者直接参考真实工程实践，快速进阶。

3. HarmonyOS 应用开发 Skills 正式上线，共计 43 个 Skill，覆盖 ArkTS、ArkUI、工程工具、DFX、多设备、SDK 等鸿蒙应用开发场景。

前往获取开发者资源：

▪ 了解HarmonyOS新特性，请登录HarmonyOS开发者官网，搜索“开发者学堂”进入“学堂概览”，了解包括互动卡片在内的“HarmonyOS新特性”：

▪ HMOS代码工坊APP请登录鸿蒙手机应用市场下载：

▪ 登录格物平台Skill广场了解更多能力：

写在最后

HarmonyOS 7 带来的不只是系统能力升级，更是覆盖开发、调试、适配和质量保障等关键环节的全链路提效，帮助开发者在这次升级中找到可直接落地的能力支撑。

面向全场景智能体验持续演进的新阶段，HarmonyOS 将继续为开发者提供更开放、更高效、更智能的能力支撑，助力开发者加快高质量应用加速创新，让更多优秀应用在鸿蒙生态中持续成长。

HarmonyOS 7 超好用，超爱用，一起升7来！